7 月 9 日消息 近日，国内半导体设备厂商至纯科技在互动平台表示，目前至纯科技 28nm 节点全部湿法工艺设备已认证完毕。
据了解，芯片制造分为逻辑芯片设计、芯片代工、封装测试三大环节。其中芯片代工包括晶圆制造、曝光、刻蚀、清洗等流程。湿法清洗设备属于半导体供给链中的清洗环节，清洗是根据不同芯片制程工艺的需求，来对硅晶圆表面进行无损伤清洗，对芯片制造过程中残留的颗粒、曝光、刻蚀制程形成的自然氧化层以及金属污染、有机物、牺牲层、抛光残留物等杂质进行清理。清洗环节占芯片制造工艺步骤的 30% 以上，在芯片制造工艺步骤中，清洗环节所占的比例是最大的。
至纯科技表示，国内目前有三家在湿法工艺设备端提供中高阶湿法制程设备，分别是至纯科技、北方华创和盛美，国内厂商的市场占比在逐年上升中。
资料显示，至纯科技成立于 2000 年，主营业务为高纯工艺系统的研发、生产和销售;半导体湿法清洗设备研发、生产和销售;光传感应用及相关光学元器件的研发、生产和销售。财报显示，至纯科技 2020 年湿法设备出货量超过 30 台，新增订单 5.3 亿元，增长 211.8%。
除了 28nm 工艺节点之外，上海证券报的报道中还指出，至纯科技 14nm 及 7nm 工艺预计 2022 年可供客户验证，客户包括中芯国际、华虹集团、长鑫存储、华为、台湾力晶等行业领先者。
值得一提的是，上个月中国电子信息产业发展研究院电子信息研究所所长温晓君在接受采访时表示：“我国将在 2022 年底完成有关 14 纳米制程设备的突破”，至纯科技将在 2022 年交付给华为、中芯国际认证的 14 纳米及 7 纳米清洗设备，一定程度上也提高这则消息的可靠性。
