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米玉杰谈台积电未来:制程有进步余地,强调客户协同重要性

   时间:2024-04-29 16:21:56 来源:ITBEAR编辑:茹茹 发表评论无障碍通道

【ITBEAR科技资讯】4月29日消息,在AMD最新一期的尖端技术访谈栏目Advanced Insights中,台积电执行副总经理兼联席COO(共同营运长)米玉杰分享了关于2nm以下制程技术的前景,并强调了与客户紧密合作的重要性。

米玉杰表示,虽然当前制程技术已经达到了非常先进的水平,但2nm以下制程仍然存在着进步的空间。台积电目前正致力于研究新一代制程技术,采用双研发团队体制,以确保技术的持续创新和进步。据ITBEAR科技资讯了解,台积电已经在7nm制程之后,每一代新制程都引入了新技术,而在即将到来的2nm节点,公司计划导入更为复杂的GAA晶体管结构,并预计在2025年实现量产。

在谈及未来技术发展时,米玉杰提到了多维度开发的策略,包括硅光子学的研究、与DRAM厂商的HBM领域合作,以及探索将3D堆叠技术引入晶体管层面的可能性,即研究CFET晶体管结构。这些创新研究有望为半导体行业带来新的突破。

此外,米玉杰还强调了与客户合作的重要性。他表示,自2010年代初以来,传统的代工厂与无厂设计企业的合作模式已逐渐暴露出不足。如今,代工厂和客户之间需要以更加紧密的方式合作,共同为芯片的优化努力。这种合作模式被形容为“亲如一家人”。

在这个过程中,Design-Technology Co-Optimization(DTCO)的理念正发挥着越来越重要的作用。DTCO有助于识别并摒弃过于极端且缺乏实际价值的工艺改进路线,使制程开发更加聚焦于客户的真实需求。同时,它还能帮助用户在产品性能、能耗和面积之间达到更好的平衡,实现单纯通过制程缩放难以达到的目标。

米玉杰谈到了人工智能为HPC领域带来的巨大机遇。他认为,人工智能已经跨过了是否有用的门槛,并正在激发人工智能产业的蓬勃发展。在人工智能浪潮的推动下,HPC行业的繁荣程度有望超越过去的PC和智能手机行业。

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