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长电科技与联电竞逐CPO赛道 共筑下一代算力基石新蓝图

   时间:2026-01-22 16:19:07 来源:快讯编辑:快讯 IP:北京 发表评论无障碍通道
 

在高性能计算与人工智能技术迅猛发展的背景下,光互连技术正成为突破算力瓶颈的关键突破口。长电科技近日宣布,其基于XDFOI®多维异质异构封装平台的硅光引擎产品已完成客户样品交付,并在终端测试中达到预期性能指标。这一进展标志着我国在光电合封(CPO)技术领域迈出重要一步,为下一代数据中心建设提供了更高效的解决方案。

作为应对算力需求激增的核心技术,CPO通过将光学引擎与运算芯片进行"共同封装",使电子信号传输距离缩短至毫米级。相较于传统可插拔光模块,该技术可降低30%以上功耗,减少对高功耗数字信号处理器的依赖,同时将带宽密度提升数倍。行业专家指出,这种技术路径特别适用于需要超高带宽的纵向扩展(Scale Up)和横向扩展(Scale Out)网络架构。

全球半导体产业正加速布局CPO生态链。晶圆代工巨头联电宣布与比利时微电子研究中心(IMEC)达成技术合作,引进其成熟的"iSiPP300"硅光子制程平台。根据规划,联电新加坡Fab 12i P3工厂将依托22/28纳米特殊制程,于2026年启动光电整合模组的风险试产,目标在2027年实现规模化量产。该厂已具备衔接硅光子产品的完整制程能力,其产品将重点服务通信、车用、物联网等高增长领域。

产业链协同效应正在显现。长电科技的技术突破与联电的产能布局形成互补,从封装测试到晶圆制造的完整链条逐步成型。市场研究机构预测,随着AI数据负载量以每年40%的速度增长,传统铜导线互连技术将在2025年前后触及物理极限,CPO技术有望在此前后进入爆发期。目前全球主要数据中心运营商已启动技术验证,部分超大规模数据中心开始试点部署。

技术迭代背后是激烈的产业竞争。联电通过成熟制程升级策略,将22纳米工艺导向高附加值应用,其硅光子技术研发投入较三年前增长超200%。长电科技则依托多维封装技术,在系统级集成领域建立差异化优势。两家企业的技术路线虽各有侧重,但均指向同一个目标:在即将到来的CPO世代占据先发位置。据知情人士透露,多家国际科技巨头已与上述企业接触,探讨联合开发定制化解决方案。

这场技术变革正在重塑半导体产业格局。从材料创新到封装工艺,从设备改造到系统集成,CPO引发的连锁反应已延伸至整个产业链。随着关键技术指标持续突破,一个覆盖设计、制造、封测、系统验证的完整生态体系正在加速形成,为全球算力基础设施升级提供核心支撑。

 
 
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