全球芯片制造巨头台积电近日对ASML最新一代高数值孔径极紫外光刻机（High NA EUV）的采购态度引发市场波动。该公司副联席首席运营官Kevin Zhang公开表示，由于单台设备售价超过4亿美元，台积电目前暂无采购计划。这一表态导致ASML美国存托凭证（ADR）价格在当日交易中从1470美元骤跌至1400美元以下，虽收盘时收复部分失地，但仍录得约1%跌幅，次日盘前进一步下滑2%。
作为ASML高端客户群体中极具分量的成员，台积电的决策对供应商营收预期产生显著影响。High NA EUV是ASML迄今推出的最先进光刻设备，其定价较前代EUV机型高出数倍。Kevin Zhang的表态直接引发市场对这款设备商业化进程的质疑，部分投资者担忧行业需求可能出现结构性转变。
面对市场恐慌情绪，多家金融机构分析师迅速展开安抚。瑞银分析师Francois-Xavier Bouvignies指出，台积电的立场应被解读为"短期时间节点上的阻力"，而非行业根本性变化。他重申瑞银此前预测，认为到本十年末High NA EUV将贡献ASML光刻系统总销售额的15%至20%，并强调该公司在晶圆厂设备领域的垄断地位持续巩固。
花旗集团分析师团队在题为"Deja EUV all over again"的报告中提出类似观点。由Andrew Gardiner领衔的团队指出，Kevin Zhang近年来对High NA EUV始终保持谨慎态度，此次表态并无实质性新内容。该团队明确表示，此前从未预期这款设备会在2028年前实现大规模出货，量产时间表仍维持在2029年及以后。
与台积电形成鲜明对比的是，ASML另外两大客户英特尔和三星展现出更积极的采购意愿。Andrew Gardiner透露，这两家半导体巨头均对High NA EUV的技术能力表示认可，并看好其商业前景。这种差异化态度表明，市场需求并未全面萎缩，不同企业在技术路线选择和成本效益评估方面存在显著分歧，导致商业化节奏呈现客户特异性。
