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SK海力士V10 NAND闪存新突破:375层堆叠搭配晶圆键合技术亮相

   时间:2026-08-08 07:24:16 来源:快讯编辑:快讯 IP:北京 发表评论无障碍通道
 

SK海力士在近期举办的FMS 2026峰会上公布了其新一代NAND闪存技术进展,其最新产品V10 NAND采用375层堆叠设计,成为该公司首款应用晶圆键合技术的NAND产品。相较于前代321层V9 "4D NAND",V10在每瓦性能方面实现了2.5倍的提升,专门针对AI基础设施对能效与性能的双重需求进行优化。企业级固态硬盘产品计划于2027年上半年进入量产阶段。

技术展示环节中,SK海力士同步公开了V10 1Tb TLC晶圆及两款创新封装方案。其中32DP 2CH型号通过堆叠32个NAND Die,成为同类封装中首款TLC产品;另一款4通道封装版本则以13.5mm×12.5mm的尺寸突破传统14mm×18mm规格,在保持性能的同时显著缩小了物理空间占用。

在存储解决方案领域,基于V9H 1Tb TLC NAND的UG500 UFS 5.0存储方案引发关注。该产品提供512GB与1TB容量选择,通过架构优化使能效较UFS 4.1提升19%。同期展出的还有采用1c nm工艺的16Gb Die LPDDR6内存颗粒,标志着SK海力士在移动存储领域的技术突破。

面向消费级市场,SK海力士推出了首款PCIe Gen5 QLC固态硬盘PQF02。该产品基于V9 QLC NAND技术,提供1TB与2TB容量版本,采用4通道主控设计,支持M.2 2230至2280全规格外形。其性价比定位有望为消费电子设备提供更高容量的存储选择。

 
 
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