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2025-07-21 09:33
传统EUV光刻机的0.33 NA物理极限约在3nm节点，而High NAEUV则将这一极限推进至2nm及以下，未来甚至有望实现1nm制程，为未来五年内的芯片性能提升奠定了基础。 目前中国最先进的量产工艺仍…
2025-07-20 01:43
2025-06-29 18:49
2025-06-09 15:41
2025-05-31 11:40
2025-05-30 10:40
2025-05-08 15:37
2025-05-01 16:11
2025-04-30 13:45
TMTPOST -- Netherlands-listed shares of ASML Holding NV dived as much as7.6% before finishing 5.2% lowe…
2025-04-17 14:36
早前，富凯曾表示，由于美国对华禁止出口EUV光刻设备，与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比，中国芯片技术将落后美国等西方国家10年至15年，主要还是因为美国禁止出口EUV设备，导致中国无法获得尖端光刻机。这…
2025-04-17 00:23
2025-04-03 13:59
2025-03-23 09:03
2025-03-21 18:01
2025-03-16 12:17
三星电子近日在其华城园区引入了一项重大技术升级，据韩媒FNnews报道，该公司引进了ASML制造的High NA极紫外光刻（EUV）设备，旨在增强2纳米及以下先进制程技术的竞争力。ASML所生产的High NA EUV设备，型号为“EXE:5000”，是目前全球唯一能供应此类高端设备的厂商。其
2025-03-12 13:59
2025-03-11 18:55
2025-03-07 08:20
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2024-11-11 15:18
11 月 4 日消息，TechInsights 在当地时间 10 月 24 日的分析中表示，每台 ASML 0.33 NA EUV光刻机的功耗就已经达到了 1170 kW，而 0.55NA (Hi…
2024-11-04 18:22
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