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晶瑞电材:公司近期已购得 KrF 光刻机一台,可用于光刻胶曝光测试

   时间:2021-12-08 15:23:02 来源:爱集微作者:Lee编辑:星辉 发表评论无障碍通道

12 月 8 日,有投资者向晶瑞电材提问,晶瑞电材是否拥有 KrF 光刻机? 是否具备批量生产 KrF 光刻胶的条件?

晶瑞电材表示,公司近期已购得 KrF 光刻机一台,可用于 KrF 光刻胶的曝光测试,同时公司 KrF 光刻胶量产化生产线正在积极建设中。

关于公司的主导产品,晶瑞电材表示,公司的主导产品包括光刻胶及配套材料、超净高纯试剂、锂电池材料和基础化工材料等,广泛应用于半导体、新能源、基础化工等行业,主要应用到下游电子产品生产过程的清洗、光刻、显影、蚀刻、去膜、浆料制备等工艺环节。公司专业从事微电子化学品的产品研发、生产和销售。公司经过多年研发和积累,超净高纯试剂主要产品达到国际最高纯度等级(G5),打破了国外技术垄断,制定了多项行业标准;被中国电子材料行业协会评为“中国电子化学品十强企业”,光刻胶产品规模化生产近 30 年,达到国际中高级水准,是国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一。

根据官方资料,晶瑞电材子公司苏州瑞红于 1993 年开始光刻胶生产,是国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一,目前能够能够提供紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分 g 线、i 线正胶等高端产品,拥有达到国际先进水平的光刻胶生产线,实行符合现代微电子化学品要求的净化管理,配备了国内一流的光刻胶检测评价装置。承担并完成了国家 02 重大专项“i 线光刻胶产品开发及产业化”项目,i 线光刻胶已向国内头部的知名大尺寸半导体厂商供货,KrF (248nm 深紫外) 光刻胶完成中试,产品分辨率达到了 0.25~0.13μm 的技术要求,建成了中试示范线。公司于 2020 年下半年购买 ASML XT 1900 Gi 型光刻机设备,ArF 高端光刻胶研发工作正式启动,旨在研发满足 90-28nm 芯片制程的 ArF (193nm) 光刻胶。与半导体行业客户包括中芯国际、华虹宏力、上海积塔、长江存储、士兰微、合肥长鑫、扬杰科技等建立了长期合作伙伴关系。(校对 / 日新)

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