在高科技制造领域，一个令人瞩目的现象是，全球范围内唯一能够制造EUV光刻机的厂商，是位于荷兰的ASML公司。
回溯至2016年，EUV光刻机首次实现了量产，这一里程碑式的进展标志着半导体制造技术的巨大飞跃。然而，这并非终点，而是不断进化的起点。EUV光刻机在随后的岁月里，经历了多次技术迭代，每一次都推动了制造精度的边界。
在这些技术迭代中，一个尤为关键的参数——数值孔径，成为了衡量EUV光刻机性能的重要标尺。数值孔径不仅关乎光刻机的光线收集能力，还直接影响到其光刻的可操作性和最终产品的分辨率。
具体来说，EUV光刻机的工作原理，是基于对极紫外（EUV）光线的精密操控。光线收集得越多，光刻过程中的灵活性和精确度就越高，从而能够制造出更小、更复杂的半导体结构。这一过程，就像是艺术家在微观世界中进行的一场精细雕刻。
ASML公司凭借其在这一领域的深厚积累和创新精神，持续推动着EUV光刻技术的发展，为全球半导体产业的进步贡献着不可或缺的力量。随着技术的不断演进，我们有理由相信，未来的半导体产品将会更加先进、更加高效。
