近日，全球知名半导体企业德州仪器（TI）宣布推出一款新型紫外波段工业数字微镜器件——DLP991UUV。这款产品专为343至410纳米波长的紫外光设计，在半导体制造和先进制造领域展现出独特的应用潜力。
作为一款空间光调制器（SLM），DLP991UUV通过精密调控入射光的幅度、方向和相位实现光路控制。其核心组件采用4096×2176像素的透镜阵列，微镜间距仅5.4微米，对角线尺寸达0.99英寸。这种结构设计使其能够精确处理紫外波段的光信号，为工业应用提供可靠的光学调制方案。
在半导体制造环节，该器件展现出显著优势。其无掩膜直写光刻技术可绕过传统光刻工艺中的掩膜环节，直接将电路图案投射到材料表面。这种工作方式不仅实现了亚微米级的图案精度，更通过实时调整光路参数适应材料表面特性，有效缩短工艺调试周期。对于先进封装等对成本敏感但分辨率要求适中的领域，这种技术方案具有明显的经济性优势。
除了半导体制造，DLP991UUV在3D打印领域同样具备应用价值。其精确的光学调制能力可提升打印精度，优化材料成型效果。通过动态调整光路参数，该器件能够适应不同材料的打印需求，为工业级3D打印提供更灵活的解决方案。
技术专家指出，无掩膜直写技术的突破性在于其工艺灵活性。传统光刻工艺中，掩膜更换带来的成本和时间消耗成为制约因素，而DLP991UUV通过实时光路调整，使生产流程更具适应性。这种特性在需要快速迭代的产品开发中表现尤为突出，能够显著降低研发成本。
