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阿斯麦揭示EUV光源技术突破 有望在2030年前实现芯片产量提升50%

   时间:2026-02-23 23:03:18 来源:格隆汇编辑:快讯 IP:北京 发表评论无障碍通道
 
格隆汇2月23日|阿斯麦(ASML.US)的研究人员表示,他们已找到一种方法,可提升一款关键芯片制造设备光源的功率,使芯片产量在本十年末提升高达50%。阿斯麦是全球唯一一家生产商用极紫外光刻(EUV)设备的公司,该设备是台积电、英特尔等芯片制造商生产先进计算芯片的关键工具。阿斯麦负责极紫外光刻的首席技术专家Michael Purvis在接受采访时表示,“这并非噱头,也不是那种只能维持极短时间演示的把戏。该系统能在完全符合客户实际使用条件的前提下,稳定输出1000瓦功率。”
 
 
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