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消息称三星2nm工艺良率已突破60%，与台积电基本持平

时间：2026-03-24 22:45:14 来源：格隆汇编辑：快讯 IP：北京 发表评论无障碍通道

格隆汇3月24日｜三星在半导体制造领域取得突破，其先进的2纳米工艺良率近期已突破60%。这一进展将使该公司能够以更低成本生产更多高性能芯片，同时吸引新客户。据报道，三星2纳米工艺的良率在短短两个季度内增长了两倍多。去年下半年，该工艺良率仅约 20%，导致晶圆上的大部分芯片无法使用。如今良率突破60%，三星已与台积电的良率水平基本持平。据悉，行业龙头台积电的2纳米工艺良率在60%至70%之间。

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