以X射线为光源的光刻技术领域迎来重大突破。一家名为Substrate的初创企业宣布，其计算光刻技术堆栈在引入谷歌DeepMind的AlphaEvolve编程智能体后，实现了性能的飞跃式提升。
在短短一个月内，Substrate的计算光刻工作负载运行速度提升了680%，计算成本大幅降低97%，内存用量也减少了94%。这一成果得益于AlphaEvolve对技术堆栈的深度优化，在确保底层物理规律完整性的前提下，显著降低了计算所需的分辨率要求。
技术团队通过调整代码数据类型，使这类工作负载能够高效运行于谷歌TPU的算力平台上。更令人瞩目的是，AlphaEvolve的引入让Substrate能够自动化探索数十万个潜在算法改进点，彻底改变了传统研发模式。这种自动化探索能力使研发团队无需依赖大量实际测试，即可精准定位技术弱点并制定改进方案。
在具体应用层面，Substrate借助AlphaEvolve的支持，仅通过单次光刻工艺就实现了12纳米特征尺寸的双向M1金属互联层制造。这一精度指标已达到High NA EUV系统的水平，标志着X射线光刻技术在先进制程节点上取得关键突破。该成果不仅验证了新型计算架构的可行性，更为半导体制造领域提供了新的技术路径选择。
