在光刻机市场，荷兰ASML公司长期占据主导地位，不仅在EUV光刻机领域独占鳌头，在DUV光刻机市场也已成为核心供应商，其市场份额已全面超越曾经的行业霸主日本企业。然而，日本尼康公司并未就此退缩，近日宣布将通过价格策略挑战ASML的市场地位。
尼康首席执行官大村康弘在近期采访中透露，公司正以低于ASML的报价争取新的ArF光刻机订单。他强调，尼康具备成本竞争优势，关键在于其能够自主生产大量核心零部件，从而有效控制整体制造成本。
目前，尼康已与亚洲及美洲多家主要芯片制造商展开谈判，部分合作已进入最终签约阶段。ArF光刻机属于DUV光刻机中的高端品类，采用193nm波长技术，分为干式和沉浸式两种类型，其中沉浸式设备代表当前技术巅峰。ASML的主力机型1980i和2000i即属于此类，也是中国近年来进口量最大的光刻机型号。
尽管EUV光刻机已实现7nm及以下制程的量产，但ArF光刻机仍不可替代。由于并非所有芯片层都需要EUV光刻工艺，使用ArF设备可显著降低生产成本。这种技术互补性使得ArF光刻机在芯片制造领域持续发挥关键作用。
回顾历史，日本企业曾在光刻机市场占据绝对优势。佳能和尼康作为行业先驱，其地位一度高于ASML。英特尔早期采购的光刻机中，尼康产品占比高达80%。然而，这种过度依赖反而成为制约因素——英特尔因未能及时完成从DUV到EUV的技术转型，导致过去十年在制程竞赛中落后于台积电。
当前尼康的ArF光刻机仍具备独特优势。依托自身在光学镜头领域的技术积累，其设备在CD均匀性等关键指标上表现优异。此次推出的20%-30%价格折扣方案，可使晶圆厂在保留ASML高端设备的同时，通过引入尼康设备作为补充，实现成本控制与产能扩张的双重目标。
