国内半导体设备领域迎来重要突破。御微半导体近日宣布，其自主研发的Raptor-600掩模图形缺陷检测设备已正式发运至国内某头部晶圆制造企业。该设备实现了90nm至28nm制程节点的全覆盖，标志着我国在高端芯片制造关键设备领域取得关键进展。
作为光刻工艺的核心部件，掩模版的质量直接决定晶圆生产的良品率。据行业专家介绍，掩模版上微米级的图形缺陷都可能导致整批晶圆报废，因此检测设备需要具备极高的分辨率和缺陷识别能力。Raptor-600的推出，有效解决了国内晶圆厂在先进制程检测环节的"卡脖子"问题。
这款新型检测设备在技术性能上实现多项突破。其搭载的自研高分辨率透反射双光路紫外成像系统，能够同步捕捉影响掩模及光刻良率的各种缺陷类型。纳米级高精度运动平台确保检测定位精度达到微米级，配合超大图像并行计算引擎，使缺陷识别速度较前代产品提升显著，同时具备更强的场景适配性。
设备研发团队透露，Raptor-600是在初代机型Raptor-500基础上，经过一年多现场产线验证和持续优化升级而成。自2025年初Raptor-500交付使用以来，研发团队根据晶圆厂实际生产反馈，重点提升了设备对复杂图形的分辨能力和抗干扰性能，特别优化了对辅助图形的识别算法，有效降低了误检率。
业内人士指出，随着国内半导体产业向先进制程迈进，对掩模检测设备的技术要求日益严苛。Raptor-600的量产应用，不仅填补了国内在该技术领域的空白，其双场景适配特性更可同时满足掩模制造厂和晶圆厂的质量管控需求，为提升我国芯片制造产业链的整体竞争力提供有力支撑。
