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智现未来攻克第三代半导体难题 入选2025智能制造“揭榜挂帅”项目

   时间:2025-12-17 14:16:23 来源:互联网编辑:快讯 IP:北京 发表评论无障碍通道
 

工业和信息化部办公厅与市场监管总局办公厅联合推进的2025年度智能制造系统解决方案“揭榜挂帅”项目名单近日完成公示,深圳智现未来科技有限公司凭借“功率半导体制造质量管控与优化解决方案”脱颖而出,成为电子信息领域深圳市唯一入选企业。这一成果不仅印证了该企业在半导体智能制造领域的标杆地位,更标志着其作为国家专精特新“小巨人”企业,正式承担起重点领域技术攻关的使命。

该项目作为落实《“十四五”智能制造发展规划》的关键举措,同时为国家“十五五”规划中关于重点领域核心技术突破的布局奠定基础。项目通过构建“智能工厂-解决方案-标准体系”三位一体工作框架,重点强化智能制造装备、工业软件与系统的集成创新,推动人工智能技术与制造场景的深度融合,旨在形成可复制、自主可控的智能制造解决方案并完成应用验证。其覆盖集成电路、工业母机、高端仪器等战略领域,直指我国制造业转型升级的核心需求。

智现未来的入选方案聚焦第三代半导体制造的三大痛点:工艺材料复杂性、质量控制滞后性及专家经验难以规模化应用。针对以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)为代表的宽禁带半导体,企业创新研发了基于“可预测空间”的双层闭环智能控制系统。该系统通过数据驱动实现从“被动追溯”到“主动预测”、从“静态配方”到“动态控制”的范式转变,为行业提供了全流程智能化解决方案。

方案架构以“三大基础+双层闭环”为核心:首先构建覆盖晶圆全生命周期的数字足迹,整合实时多模态缺陷识别与根因分析大模型,形成覆盖“人机料法环测”全要素的“可预测数据空间”;其次通过动态派工与实时工艺参数自适应调优的双层闭环机制,在缺陷发生前实现预测性干预。该系统可完成片对片(Wafer-to-Wafer)与批对批(Run-to-Run)的实时工艺优化,显著提升产品良率,缩短分析周期,并沉淀专家知识库。

据技术团队介绍,该解决方案已实现关键技术自主可控,其多模态根因分析大模型通过融合物理模型与数据驱动方法,突破了传统依赖专家经验的局限。动态派工系统则基于强化学习算法,可根据设备状态、工艺参数及订单优先级自动生成最优生产路径,使设备综合效率(OEE)提升15%以上。目前,相关技术已在多家头部半导体企业完成验证,良率提升效果显著。

此次入选“揭榜挂帅”项目,被视为智现未来技术攻坚的重要里程碑。企业负责人表示,将以此为契机加速核心技术迭代,推动解决方案在更多制造场景落地,助力我国半导体产业链突破“卡脖子”环节,提升全球供应链竞争力。据悉,该项目研发成果计划于2026年前完成全链条验证,并形成可推广的行业标准。

 
 
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