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美光1.5万亿日元扩建广岛半导体厂 2028年投产为英伟达等供AI芯片

   时间:2026-07-04 20:01:40 来源:互联网编辑:快讯 IP:北京 发表评论无障碍通道
 

美光科技近日在日本广岛正式启动了一项半导体工厂扩建工程,这一项目旨在强化其在先进存储芯片领域的生产能力。据悉,该扩建项目总投资高达1.5万亿日元,按当前汇率折算约为631.14亿元人民币,凸显了美光在全球半导体产业布局中的雄心。

日本经济产业省(METI)对这一项目给予了大力支持,承诺提供最高5000亿日元的资金援助,折合人民币约210.38亿元。这笔资金将助力美光科技顺利推进工厂扩建,提升生产效率和技术水平。项目建设工作由美光科技亲自操刀,确保项目能够按照既定计划稳步推进。

扩建后的工厂将专注于生产高带宽内存(HBM)等先进芯片,这些芯片是人工智能、数据中心等高科技领域的关键组件。美光科技的首席执行官桑杰·梅赫罗特拉在出席项目启动仪式时透露,首片用于AI核心存储技术的HBM生产晶圆已经在广岛工厂成功制造。他强调,美国的技术创新与日本的精湛制造工艺相结合,将催生出世界一流的产品,而非妥协之选。

新工厂预计将在2028年正式投产,届时将主要服务于英伟达等全球科技巨头,满足他们对高性能存储芯片的迫切需求。这一项目的实施,不仅将提升美光科技在全球半导体市场的竞争力,也将进一步巩固日本在全球半导体产业链中的重要地位。

 
 
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