国内半导体产业近日迎来重要进展，中芯国际总市值首次突破万亿元大关，引发市场广泛关注。据交易数据显示，该公司A股单日成交额突破100亿元，股价盘中最高涨幅达7.9%，创下历史新高。
此次股价异动与一则技术突破传闻密切相关。有消息称，这家半导体龙头企业正在对国产深紫外线（DUV）光刻设备进行技术验证，测试对象为上海初创企业宇量昇研发的浸没式光刻机。该设备采用的技术路径与荷兰ASML公司的同类产品存在相似性，标志着国产高端光刻设备迈出关键一步。
长期以来，中芯国际的先进制程生产高度依赖进口设备。受制于美国出口管制政策，该公司从ASML采购的DUV光刻机仅限于较旧型号，这对其工艺升级构成明显制约。业内人士指出，当前国际环境下，半导体设备国产化已成为突破技术封锁的必由之路。
据技术团队透露，正在测试的28纳米DUV设备通过多重曝光工艺，已具备生产7纳米芯片的能力。更值得关注的是，该设备在极限状态下可尝试5纳米制程，虽然现阶段良品率尚不理想，但这一突破为后续技术迭代预留了想象空间。不过专家强调，要实现更先进制程的稳定量产，仍需在光源系统、双工作台等核心技术领域取得突破。
市场分析认为，中芯国际市值创新高既反映了资本市场对国产半导体设备突破的期待，也体现出全球供应链重构背景下，中国芯片制造业的战略价值正在持续提升。随着国产设备验证进程的推进，半导体产业链自主可控进程有望进一步加速。
