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国家知识产权局推动《集成电路布图设计保护条例》修改 构建立体化保护格局

   时间:2025-09-06 11:50:51 来源:环球网资讯编辑:快讯团队 IP:北京 发表评论无障碍通道
 

国家知识产权局新闻发言人、办公室副主任杜玉在近期召开的新闻发布会上透露,为适应超大规模集成电路技术迭代需求,我国正加速推进《集成电路布图设计保护条例》修订工作。此次修订将与专利保护、商业秘密保护形成协同机制,构建覆盖设计、制造、封装全链条的立体化知识产权保护体系,为产业创新提供更完善的法律保障。

据第三方研究机构来觅数据统计,2024年全球半导体市场规模攀升至6202亿美元,其中中国市场份额占比达30.1%,但美国企业仍占据半壁江山。在细分领域,国内企业在5G通信芯片、AI算力芯片等方向实现技术突破,不过整体市场占有率仍不足两成。值得关注的是,随着国产化替代进程加速,预计2025年中国AI芯片本土化率将突破40%,以寒武纪为代表的科技企业正迎来政策驱动的市场机遇。

在产业升级与科技创新的双重驱动下,集成电路产业战略地位愈发凸显。来觅数据分析指出,当前全球产业格局加速重构,中国将突破关键核心技术作为推动高质量发展的核心抓手,而集成电路作为数字经济的"基石",其发展水平直接决定着产业体系现代化进程。这种战略定位在资本市场得到充分响应——2025年上半年半导体行业完成395起融资,融资总额达275.53亿元,两项指标均实现同比增长。

这种投融资热潮折射出多重积极信号:一方面,投资者对国产芯片技术突破的信心持续增强,资金加速向具备核心竞争力的企业集聚;另一方面,政策层面通过新型工业化战略加大对基础领域的扶持力度,形成"需求牵引+政策推动"的良性循环。来觅数据特别指出,AI芯片、车规级芯片等细分赛道正成为资本布局重点,反映出市场对产业升级方向的精准判断。

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