近日，一项关于非晶态沸石咪唑酯骨架（aZIF）薄膜制备技术的突破性研究引发了科技界关注。由华东理工大学与美国约翰霍普金斯大学联合组建的国际科研团队，成功开发出间歇性旋涂化学液相沉积技术，实现了aZIF薄膜沉积速率与厚度的精准调控。该成果已通过电子束光刻和超越极紫外光刻的双重验证，相关论文发表于国际权威期刊《自然—化学工程》。
研究团队指出，aZIF薄膜因其独特的物理化学性质，近年来被视为新一代光刻胶的理想材料。然而，如何实现大面积、高精度的可控制备一直是制约其产业化的关键难题。此次提出的创新方法，在前期超稀释前驱体溶液技术的基础上，通过优化旋涂工艺参数，显著提升了薄膜的均匀性和工艺稳定性。实验数据显示，新方法制备的aZIF薄膜在光刻分辨率和缺陷控制方面均达到国际先进水平。
在资本市场层面，半导体光刻胶领域正迎来新一轮布局热潮。据不完全统计，A股市场已有20家上市公司涉足该赛道，其中既包括直接从事光刻胶研发生产的半导体材料企业，也涵盖通过子公司或参股方式布局的产业链关联公司。典型代表如上海新阳、南大光电、聚光科技等企业，均在不同技术路线实现突破，部分产品已进入客户验证阶段。
业内专家分析，随着先进制程对光刻精度要求的持续提升，aZIF薄膜等新型光刻胶材料的市场需求将持续扩大。此次国际合作研究的突破，不仅为光刻工艺升级提供了关键材料解决方案，也为国内半导体产业链企业追赶国际先进水平创造了新的技术路径。目前，相关企业正加速推进产学研合作，力求在下一代光刻技术竞争中占据先机。
